精密蚀刻工艺流程：从设计到成品的关键控制步骤

蚀刻工艺以光刻胶掩膜为基础，首先进行基材清洗与表面活化处理，确保附着力与均匀性，随后涂布、曝光、显影形成精密图形。

进入主蚀刻阶段，湿法采用酸性或碱性蚀刻液，干法则使用等离子体或反应离子蚀刻，实现各向同性或各向异性材料去除，控制CD与侧壁角度。

蚀刻完成后依次进行光刻胶去除、残留物清洗及表面钝化处理，最终通过显微镜与量测设备检验关键尺寸与表面质量，完成高质量零件交付。