国产首台28nm浸润式DUV光刻机交付：半导体自主化关键突破

上海初创企业宇量昇研发的首台国产28nm浸润式DUV光刻机，已交付中芯国际进行测试。该机型采用先进光学系统，曝光精度优异，支持高密度集成电路生产。

国产化率高达70%，显著降低供应链风险，提升成本竞争力。预计将加速28nm以下工艺节点应用，推动半导体产业商业化落地。

此突破为EUV光刻机试生产铺路，2026年量产目标明确，注入万亿级市场活力，强化全球芯片制造格局。