光刻机的光：精密光源驱动半导体制造的核心技术与商业价值

光刻机光源主要采用DUV和EUV技术，波长从193nm至13.5nm，确保纳米级图案转移。高效光源降低能耗，提高产量，直接提升芯片良率。

商业价值显著：在5nm以下工艺中，光源优化可节省数亿美元制造成本，推动AI与5G应用落地，助力企业占据全球半导体供应链主导地位。

未来趋势聚焦高功率激光光源开发，结合光刻胶优化，实现亚10nm精度，预计2030年市场规模超5000亿元。