光刻机在半导体制造中的核心作用：精密图案转移驱动芯片产业升级

光刻机利用紫外光或极紫外光，将设计图案精确投射至硅晶圆表面，实现纳米级电路刻蚀，是集成电路制造的核心工艺。

其高精度与高通量特性显著降低生产成本，推动5nm以下先进制程发展，助力半导体企业提升市场竞争力。

在全球芯片供应链中，光刻机垄断性技术保障供应链安全，驱动万亿美元级产业价值增长。