光刻机：半导体芯片精密图案刻蚀的核心设备

光刻机通过紫外光照射光刻胶，在硅晶圆上形成纳米级精密图案，实现集成电路的批量刻蚀。该过程决定芯片分辨率与良率，直接影响电子产品竞争力。

在先进制程中，EUV光刻机支持7nm以下节点，缩短研发周期，降低成本，推动AI与5G芯片商业化落地。

企业投资光刻机可提升产能20%以上，保障供应链稳定，实现高附加值出口，驱动半导体产业万亿市场增长。