光刻机光源揭秘：从汞灯i-line到EUV激光的核心技术与商业价值

光刻机核心光源为紫外光，早期的汞灯i-line波长365nm，用于亚微米工艺，成本低但分辨率有限，适用于中低端芯片制造。

KrF与ArF准分子激光分别采用248nm和193nm波长，实现90nm以下节点，加速5G与AI芯片商用化，投资回报率显著提升。

EUV光源波长13.5nm，ASML主导技术，赋能3nm以下工艺，预计2025年市场规模超百亿美元，推动半导体产业升级。