光刻机的发明之路：1950年代平面工艺到精密曝光技术的半导体革命

20世纪50年代，Jay Lathrop在贝尔实验室发明光刻工艺，利用紫外光通过掩膜版曝光光刻胶，实现微米级图案转移，取代手工绘制，提升半导体制造精度。

1959年，仙童半导体团队研制首台商用光刻机，启用单晶片多层集成，推动CMOS工艺发展，开启大规模芯片生产，显著提高良率与效率。

光刻机发明衍生万亿美元产业生态，ASML等企业垄断EUV高端市场，驱动全球科技进步与商业创新。