国产光刻机突破：60台设备量产加速半导体产业链自主化进程

光刻机作为半导体核心设备，60台国产型号采用先进DUV技术，实现亚10nm分辨率，显著缩短晶圆加工周期。

此批设备部署将降低进口依赖，预计每年节省采购成本20%，助力下游芯片企业规模化生产。

商业价值凸显：提升产业链韧性，预计带动相关投资超百亿，推动高科技制造业升级。