光刻机：半导体芯片精密图案转移的核心设备，推动集成电路产业升级

光刻机利用光刻技术，将掩膜版图案精确投射至硅晶圆表面，形成微米至纳米级电路结构，确保半导体芯片的高集成度与可靠性。

在商业应用中，光刻机显著提高生产效率，降低缺陷率，支持5nm以下工艺节点，推动AI、5G等领域创新，创造万亿美元市场价值。