5nm光刻机：EUV技术驱动半导体精密制造与商业价值跃升

5nm光刻机利用极紫外光刻技术，精度控制在5纳米尺度，支持高密度逻辑门集成，显著提高晶圆良率和生产效率。

商业价值突出，该设备降低纳米级工艺成本，推动AI芯片与5G模块创新，预计全球市场规模超500亿美元。