ASML DUV系列包括TWINSCAN NXT:2050i与XT:1900，支持ArF浸没曝光，产能超6000片/天，适用于先进逻辑与DRAM节点，优化高地形层栈加工。
EUV系列如TWINSCAN NXE:3400B及EXE:5000，利用13.5nm光源与0.55 NA，实现8nm分辨率，助力2025年2nm芯片量产，降低工艺复杂性。
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这些型号显著提升芯片几何缩放，驱动半导体商业价值增长，ASML垄断地位强化供应链稳定性与创新投资回报。
ASML光刻机型号列表：EUV与DUV系统驱动半导体高精度制造
半导体制造
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摘要：概述ASML核心光刻机型号，聚焦EUV高NA与DUV浸没技术，支持2nm节点芯片生产，提升产业效率与竞争力。
发布时间：2025-11-11
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