超纯水电阻率：工业纯化核心指标与半导体制造优化策略

超纯水电阻率通常达18.2 MΩ·cm，是衡量离子杂质的关键指标。在半导体制造中，高电阻率确保晶圆清洗无污染，提升芯片良率达5%以上。

影响因素包括离子交换树脂老化与CO2溶解。定期监测电阻率可预警系统故障，优化再生周期，降低维护成本20%。

采用连续电去离子技术可稳定电阻率，结合在线传感器实现自动化控制，推动工业生产向高纯高效转型，创造显著商业价值。