MFC气体流量控制器：精密调控助力工业高效生产与成本优化

MFC气体流量控制器采用热式或压力差原理，精确控制气体流量至0.1%FS精度，适用于半导体蚀刻与CVD工艺，确保工艺稳定性。

在工业应用中，MFC集成数字通信接口，支持远程监控与数据分析，优化气体利用率，降低运营成本达20%以上。

选用MFC可提升生产良率，符合ISO标准，助力企业实现绿色制造与可持续发展目标。