光刻机工作原理图解：半导体制造核心设备的曝光过程

光刻机原理涉及光源投射，通过掩膜版将图案投影至涂有光阻的硅片上，形成曝光区域。

后续蚀刻去除未曝光部分，沉积材料构建电路层，确保纳米级精度。

原理图显示对位系统和光学镜片的作用，提升制造效率和良率。