正性光刻胶在半导体微细加工中的关键作用与性能优化策略

正性光刻胶是一种感光材料，在紫外光曝光后暴露区域溶解，形成精细图案，常用于集成电路制造。

其优势包括高分辨率和低缺陷率，通过优化聚合物组成和厚度控制，可提高加工良率。