氢氟酸在工业中的关键用途：玻璃蚀刻与半导体清洗的应用

氢氟酸主要用于玻璃蚀刻工艺，能精确去除硅酸盐层，广泛应用于光学玻璃和装饰制品制造，提升产品表面质量。

在半导体行业，氢氟酸用于晶圆清洗和蚀刻硅基材料，确保器件高纯度和性能稳定性，是微电子生产不可或缺的试剂。

此外，氢氟酸在石油炼制中作为催化剂，促进烷基化反应，提高汽油辛烷值，并用于制药合成氟化化合物。