曝光设备在半导体制造中的关键作用与技术优化

曝光设备通过紫外光刻技术在晶圆上形成精密图案，是半导体制造的核心装备，提高分辨率是关键。

现代曝光设备集成激光系统和精密对准机制，优化曝光参数可减少缺陷，提升产量和产品可靠性。