设备包括箱体、净化系统和真空泵,可维持O2和H2O含量低于1ppm,适用于化学合成。
操作时通过手套口进行,过渡舱传递样品;在材料处理中,保护敏感物质,提升实验精度。
设备包括箱体、净化系统和真空泵,可维持O2和H2O含量低于1ppm,适用于化学合成。
操作时通过手套口进行,过渡舱传递样品;在材料处理中,保护敏感物质,提升实验精度。
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