工业纯化水设备主要采用反渗透(RO)、电去离子(EDI)和超滤(UF)等组合工艺,有效去除水中离子、有机物、微生物及颗粒物,产水电导率可稳定控制在0.055μS/cm以下。
设备设计注重连续稳定运行与低运行成本,配备PLC自动控制系统与在线水质监测,实现无人值守操作,同时通过定期再生与清洗延长膜组件使用寿命。
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在半导体制造、注射剂生产及精密清洗场景中,工业纯化水设备已成为保障产品质量与符合GMP、USP标准的关键基础设施。
工业纯化水设备主要采用反渗透(RO)、电去离子(EDI)和超滤(UF)等组合工艺,有效去除水中离子、有机物、微生物及颗粒物,产水电导率可稳定控制在0.055μS/cm以下。
设备设计注重连续稳定运行与低运行成本,配备PLC自动控制系统与在线水质监测,实现无人值守操作,同时通过定期再生与清洗延长膜组件使用寿命。
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