DUV浸没式光刻机：精密图案化技术驱动半导体产业效率升级

DUV浸没式光刻机利用193nm深紫外光源与高折射率浸没液，实现亚10nm特征尺寸图案化，提升曝光精度与产量。

该技术优化NA数值孔径，减少光衍射效应，适用于逻辑芯片与存储器生产，显著缩短工艺周期。

商业价值突出：降低设备投资回报期，推动Fab厂产能扩张，助力全球半导体供应链竞争力提升。