光刻机简单解析：半导体制造的核心精密设备与商业价值

光刻机是半导体制造的核心设备，利用紫外光或极紫外光（EUV）通过掩膜版将电路图案精确投射至硅晶圆表面，实现纳米级刻蚀。

其商业价值在于推动芯片密度提升，降低生产成本，支持5nm以下工艺节点，助力AI、5G等领域创新与市场扩张。