上海微电子装备集团交付SSA800-10W 28nm浸没式光刻机，实现单次曝光28nm芯片生产，标志国产DUV技术跃升，填补高端装备空白。
该设备提升中芯国际等企业产能，降低进口依赖，预计注入数百亿元商业价值，加速半导体产业升级与全球竞争力。
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未来，28nm光刻机将支撑先进封装与逻辑芯片制造，驱动工业生态重构，促进高效能计算应用落地。
上海微电子28nm浸没式光刻机交付：国产半导体装备突破关键节点
半导体制造
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上海微电子28nm光刻机
摘要：上海微电子首台28nm光刻机成功交付，推动国产化进程，增强产业链自主可控能力。
发布时间：2025-11-08
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