光刻机发明的工业革命：从印刷电路到纳米级芯片制造的里程碑

1950年代，Jay Last等人发明光刻机，利用紫外光和光刻胶在硅片上刻蚀微米级图案，奠定集成电路基础。

该技术通过曝光、显影和蚀刻工艺，实现高精度图案转移，提升芯片密度，适用于大规模生产。

光刻机商业化催生半导体巨头，全球市场规模超千亿，推动电子产业创新与经济增长。