金属靶材:高纯度精密材料在薄膜沉积技术中的核心作用与商业价值
材料工程
2025-11-20
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关键词:
金属靶材
摘要:金属靶材驱动溅射工艺创新,提升半导体和显示产业效率,创造高附加值市场机遇。
金属靶材采用高纯度钛、铝等金属制成,用于PVD溅射沉积均匀薄膜。其低杂质含量确保膜层致密性,适用于集成电路和太阳能电池制造。
商业价值显著,随着5G和OLED需求激增,靶材优化可降低能耗20%,提升产量,推动供应链效率和企业盈利。
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发布时间:2025-11-20
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