极紫外光刻机龙头：ASML如何主导半导体先进制程革命

ASML的EUV光刻机采用13.5nm波长，实现7nm以下节点精密刻蚀，显著降低良率损失。其垄断地位源于专利壁垒，年营收超200亿欧元。

在商业价值上，EUV设备单价逾2亿美元，助力台积电、三星等巨头抢占先进制程份额，预计至2030年市场规模达500亿美元。

面对地缘风险，ASML通过供应链优化确保交付稳定，强化其在全球半导体生态中的战略影响力。