光刻机稀土应用剖析：EUV核心部件依赖与供应链战略价值

光刻机尤其是EUV系统，依赖稀土元素制成高性能磁体与激光源，每台设备需约12公斤稀土磁材，确保纳米级精度曝光。

稀土提升光刻机效率与稳定性，推动半导体产能扩张，中国出口管制凸显供应链脆弱性，影响ASML等巨头交货周期。

优化稀土采购策略可降低成本风险，促进本土化创新，实现光刻机产业可持续商业价值。