氢氟酸化学式HF解析：蚀刻应用与防护措施指南

氢氟酸化学式为HF，弱酸但强腐蚀性，常用于玻璃蚀刻和半导体清洗，浓度控制在5%-48%。

反应中HF与硅酸盐生成挥发性氟化氢气体，需在通风柜操作并配备钙盐中和剂。

防护包括耐酸手套与面罩，泄漏时立即用石灰粉吸收，符合OSHA安全标准。