全球主要光刻机制造公司及其在半导体产业中的关键作用

光刻机是半导体制造的核心设备，主要公司包括荷兰ASML、日本Nikon和Canon。这些企业主导EUV和DUV光刻技术，推动芯片微缩化。

ASML作为市场领导者，其EUV光刻机实现7nm以下制程，支持AI和5G应用。公司注重研发，提升产量和精度以满足全球需求。

这些公司通过国际合作，确保供应链稳定，促进半导体产业可持续发展，避免技术垄断风险。