精密制造从芯片切割开始，激光刻蚀技术精度达1μm，有助于光源均匀性。
薄膜沉积工艺控制反射率。PVD（物理气相沉积）用于多层涂层，提高光提取效率。
3D打印辅助模具制作，缩短开发周期。适用于定制光源形状适应设备空间。
自动化装配线集成视觉识别，减少人为误差。产量可达每日万件。
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后处理如氮气封装防氧化。测试验证光衰<1%/1000h。
这些技术整体提升制造精度20%。
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