酰亚胺基团通过亲核取代反应形成环状结构,提高聚合物热稳定性和化学耐性。在电子和航空工业中,聚酰亚胺薄膜广泛用于绝缘层,加工温度控制在250-300℃以确保分子链规整。
工业合成采用溶液聚合法,选用二胺与二酐单体,催化剂优化可缩短反应时间30%。实际应用中,添加纳米填料增强力学性能,适用于柔性电路板制造。
酰亚胺基团通过亲核取代反应形成环状结构,提高聚合物热稳定性和化学耐性。在电子和航空工业中,聚酰亚胺薄膜广泛用于绝缘层,加工温度控制在250-300℃以确保分子链规整。
工业合成采用溶液聚合法,选用二胺与二酐单体,催化剂优化可缩短反应时间30%。实际应用中,添加纳米填料增强力学性能,适用于柔性电路板制造。
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