工业级纯水设备通常集成预处理、反渗透(RO)、电去离子(EDI)及终端抛光等多级工艺,能将原水电导率稳定控制在0.055μS/cm以下,达到18.2MΩ·cm超纯水标准。
该设备广泛应用于半导体芯片制造、制药注射用水、光伏电池生产及高压锅炉补给水等领域,有效去除离子、有机物、细菌及内毒素,保障生产工艺稳定性和产品合格率。
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现代工业级纯水系统注重智能化监控与低耗运行,通过在线电阻率、TOC、粒子实时检测及自动再生功能,大幅降低运行成本与维护难度。
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