光刻机历史：从光学基础到EUV革命驱动半导体产业升级

光刻机源于19世纪光学显微镜技术，20世纪50年代应用于半导体光刻工艺，实现晶圆图案转移，奠定集成电路基础。

1970年代ASML等企业引入步进式曝光，提升分辨率至微米级，助力摩尔定律践行，半导体产量激增20倍，商业产值超千亿。

2010年后EUV光刻机突破193nm极限，实现7nm以下节点，驱动AI芯片创新，全球市场规模达数百亿美元。