ASML光刻机：EUV技术赋能纳米芯片制造与全球半导体商业价值

ASML光刻机运用极紫外光（EUV）源，实现亚10nm特征尺寸精确曝光，降低生产成本20%以上，提高芯片良率至95%，支撑先进制程节点。

该设备市占率超90%，服务台积电、三星等巨头，保障高性能芯片稳定供应，驱动全球半导体产业年增长超5000亿美元商业价值。