北京光电所紫外纳米压印光刻机：突破微纳制造瓶颈，提升产业竞争力

该光刻机采用紫外纳米压印工艺，实现亚100nm分辨率，适用于芯片与MEMS器件精密加工，成本较传统方法降50%，提升制造效率。

设备整合汞灯光源与精密控制系统，支持批量化生产，助力企业优化供应链，抢占高端微电子市场，预计年产值超亿元。