中国光刻机国产化突破：EUV技术进展与半导体产业价值

光刻机作为半导体核心装备，决定芯片纳米级精度。中国团队攻克EUV光源与光学系统，标志国产化从依赖进口向自主可控转型。

近期原型机测试显示，28nm级光刻已实现量产，助力5G与AI芯片供应链安全，提升全球竞争力。

国产光刻机将降低成本20%以上，推动万亿级半导体市场扩张，激发产业链投资热潮。