极紫外光为何成为光刻机核心：提升芯片分辨率与产业价值的战略选择

光刻机采用极紫外光（EUV）因其波长仅13.5nm，能实现5nm以下节点的分辨率，远超传统DUV光源，推动摩尔定律延续。

EUV技术虽需真空环境与高NA光学系统，但显著降低多重曝光成本，提升芯片产量，助力ASML等企业主导万亿美元半导体市场。

商业价值凸显：EUV光刻机单价超1亿美元，加速AI与5G芯片创新，驱动全球供应链重塑与产业升级。