芯片光刻机：半导体制造核心装备的技术创新与商业价值

芯片光刻机采用EUV极紫外光源，实现7nm以下节点刻蚀，提升晶圆良率20%以上，显著降低制造成本。

在商业应用中，光刻机优化供应链，助力5G与汽车芯片生产，年市场规模超百亿美元。

未来，ASML主导的创新将驱动光刻机向3nm演进，强化企业竞争优势。