国产光刻机7nm突破：中国半导体设备实现关键国产化，注入产业链新动能

近期，上海宇量昇等企业曝光机初步测试7nm芯片生产成功，摆脱进口依赖，提升DUV浸润式光刻精度。

此突破将降低芯片制造成本20%以上，推动下游厂商如华为加速迭代，预计2026年市场份额翻番。

大基金三期重点支持光刻机研发，注入百亿资金，强化EUV技术攻关，铸就全球竞争力。