工业显微镜观察前,清洁物镜与载玻片,确保样品固定于平台。调整聚光镜至平行光源,避免反射干扰,提高成像清晰度。
从10倍低倍率起始,缓慢旋钮调焦至样品锐利。切换高倍镜时,记录微观缺陷如裂纹或腐蚀,支持SPC统计过程控制。
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掌握此技巧可在半导体加工中早识失效点,降低次品率10%以上,提升供应链商业价值与合规性。
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