氢氟酸：工业蚀刻与半导体清洗中的高效‘化骨水’应用

氢氟酸（HF）以其强腐蚀性著称，在玻璃蚀刻、半导体硅片清洗及金属表面处理中广泛应用，确保高精度加工，适用于氟化工与电子工业。

在半导体制造中，电子级氢氟酸优化芯片蚀刻工艺，降低缺陷率，提高产量，推动产业链升级，实现年产值数十亿元的商业潜力。

为最大化实用性，企业须采用聚四氟乙烯容器存储，并配备PPE防护装备，确保安全合规操作，避免风险并维持可持续生产。