高纯甲烷纯度控制：提升化工与半导体产业的核心效率与商业价值

高纯甲烷纯度需达99.999%以上，确保杂质如氧、氮低于ppm级。在半导体CVD工艺中，高纯度直接提升芯片良率，降低缺陷率达20%。

采用变压吸附和膜分离技术，可高效去除污染物，提高产量30%。商业价值显著：高纯产品溢价15%，减少设备腐蚀维护成本。

未来，绿色提纯路径将推动可持续生产，助力能源转型市场份额扩张。