高真空电子束蒸发镀膜机的工作原理与工业应用

高真空电子束蒸发镀膜机利用电子束加热源材料，在10^-5Pa真空度下实现原子级蒸发沉积，形成均匀薄膜层。

设备核心包括电子枪、真空腔及旋转基板，支持多层光学涂层和功能膜制备，适用于半导体和光学元件生产。

应用中，需监控束流稳定性及基板温度，以确保膜厚均匀性和附着力。通过参数优化，提升镀膜效率达95%以上。