RO超纯水设备在电子半导体行业的核心应用与技术要点

RO超纯水设备采用反渗透为核心技术，结合EDI和抛光混床，实现TOC<1ppb、颗粒<0.1μm的超高纯度水质。

在半导体、光刻、晶圆清洗等领域，稳定的超纯水供给直接影响器件性能与成品率，已成为生产线关键配套。

现代RO超纯水系统注重低能耗设计与智能在线监测，显著降低运行成本并提升系统可靠性。