磷化铟(InP)是一种III-V族化合物半导体,具有优异的电子迁移率和带隙宽度,广泛用于制造高速光电子器件,如激光二极管和光探测器。
在工业生产中,InP衬底通过外延生长技术制备,确保晶体质量高,适用于5G通信和光纤网络,提升数据传输效率。
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未来,磷化铟将推动集成光子学发展,降低功耗并提高器件性能,助力制造业向智能化转型。
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