光刻机是什么：半导体芯片制造的核心精密光刻设备及其商业价值

光刻机通过紫外光或EUV光源照射光掩膜版，将电路图案精确投影到硅晶圆的光刻胶层，实现纳米级特征刻蚀，确保芯片高密度集成。

在半导体工业中，光刻机是生产瓶颈，其分辨率直接决定芯片性能与成本，ASML主导市场，推动5nm以下节点创新，带来巨额商业回报。