光刻机核心光源解析：激光驱动的半导体精密制造革命

光刻机确实依赖激光作为核心光源，特别是EUV激光，支持193nm或13.5nm波长，实现亚10nm分辨率，确保半导体晶圆上精细电路刻蚀。

激光技术的应用显著降低制造成本，提高良率，推动5nm以下节点芯片量产，助力全球半导体产业升级，创造万亿美元商业价值。