氮化镓光刻机：高效功率半导体制造的核心技术与商业潜力

氮化镓（GaN）光刻机采用EUV极紫外光源，实现亚10nm级图案化精度，显著提高功率器件晶圆利用率，降低制造成本。

在5G基站和电动汽车领域，该设备加速GaN HEMT晶体管生产，预计年产值超百亿美元，推动产业链升级。

商用部署中，光刻机集成AI优化曝光参数，确保高良率与能效，助力企业抢占高端市场份额。