中国光刻机技术自主创新：突破瓶颈推动半导体产业链升级

中国光刻机技术聚焦DUV和EUV领域，上海微电子等企业已实现28nm级曝光精度，显著缩短研发周期，提升制造效率。

通过国家战略投资和技术攻关，国产光刻机成本降至国际水平的70%，为芯片企业提供可靠供应链保障。

这一进展驱动半导体产业商业价值爆发，预计2025年市场规模超500亿元，促进出口竞争力。