中国首台光刻机问世：半导体国产化突破，注入产业新动能

光刻机是半导体光刻成像核心设备，中国团队攻克浸没式光学系统与纳米级精度控制，首台国产机型问世，实现关键技术自主可控。

该设备支持7nm以下制程，生产效率提升25%，成本降幅超30%，助力下游芯片企业降低依赖，推动半导体产业链商业化升级。

展望未来，国产光刻机将加速产业生态构建，预计市场规模超千亿，强化中国在全球半导体领域的竞争优势。