CVD化学气相沉积技术：精密薄膜制备的核心，推动半导体与航空产业高效升级

化学气相沉积（CVD）利用前驱体气体在基材表面反应，形成高纯度薄膜，适用于半导体晶圆和工具涂层，确保微米级均匀性，提高器件性能。

在工业应用中，CVD优化了PECVD和热CVD变体，降低能耗20%以上，支持大规模生产，助力企业提升市场份额与利润率。

未来CVD结合AI监控，将进一步精炼沉积参数，扩展至柔性电子领域，实现可持续制造与商业价值最大化。